Xi'an Institute of Optics and Precision Mechanics,CAS
Studies on deep levels in GaAs epilayers grown on Si by metal-organic chemical vapour deposition .4. 0.96 eV photoluminescence emission | |
Liang, JC1; Zhao, JL2; Gao, Y2; Dou, K2; Huang, SH2; Yu, JQ2; Gao, HK3 | |
作者部门 | 中国科学院西安光学精密机械研究所(2010年前) |
1996-02-01 | |
发表期刊 | JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS |
ISSN | 0261-8028 |
卷号 | 15期号:3页码:189-191 |
产权排序 | 3 |
文章类型 | Article |
WOS标题词 | Science & Technology ; Technology |
收录类别 | SCI |
关键词[WOS] | SEMI-INSULATING GAAS ; EPITAXIAL GAAS ; DEFECTS |
语种 | 英语 |
WOS研究方向 | Materials Science |
WOS类目 | Materials Science, Multidisciplinary |
WOS记录号 | WOS:A1996UA90100003 |
引用统计 | |
文献类型 | 期刊论文 |
条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/30328 |
专题 | 中国科学院西安光学精密机械研究所(2010年前) |
作者单位 | 1.CIVIL AVIAT INST CHINA,DEPT BASIC SCI,TIANJIN 300300,PEOPLES R CHINA 2.CHINESE ACAD SCI,CHANGCHUN INST PHYS,LAB EXCITED STATE PROC,CHANGCHUN 130021,PEOPLES R CHINA 3.CHINESE ACAD SCI,XIAN INST OPT & FINE MECH,XIAN 710068,PEOPLES R CHINA |
推荐引用方式 GB/T 7714 | Liang, JC,Zhao, JL,Gao, Y,et al. Studies on deep levels in GaAs epilayers grown on Si by metal-organic chemical vapour deposition .4. 0.96 eV photoluminescence emission[J]. JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS,1996,15(3):189-191. |
APA | Liang, JC.,Zhao, JL.,Gao, Y.,Dou, K.,Huang, SH.,...&Gao, HK.(1996).Studies on deep levels in GaAs epilayers grown on Si by metal-organic chemical vapour deposition .4. 0.96 eV photoluminescence emission.JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS,15(3),189-191. |
MLA | Liang, JC,et al."Studies on deep levels in GaAs epilayers grown on Si by metal-organic chemical vapour deposition .4. 0.96 eV photoluminescence emission".JOURNAL OF MATERIALS SCIENCE LETTERS 15.3(1996):189-191. |
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文件名称/大小 | 文献类型 | 版本类型 | 开放类型 | 使用许可 | ||
Studies on deep leve(227KB) | 期刊论文 | 出版稿 | 限制开放 | CC BY-NC-SA | 请求全文 |
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