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一种用于双光谱成像仪的摆扫及在轨定标组件
李立波; 王爽; 邹纯博; 刘学斌; 孙剑; 赵强; 李娟
2016-12-29
公开日期2017-06-13
授权国家中国
专利类型发明
摘要本发明公开了一种用于双光谱成像仪的摆扫及在轨定标组件。该组件包括两个成V形反射摆镜及一个倾斜设置的定标反射镜,两个摆镜与定标反射镜之间的相对位置固定,可沿转轴正负90°旋转,用于实现两个光谱成像仪高精度同步摆扫和在轨定标功能。该组件由于只需要一个运动部件、结构紧凑、易于装调,很好满足了星载设备对于重量、体积和可靠性的要求。
主权项0001.1.一种用于双光谱成像仪的摆扫及在轨定标组件,其特征在于:包括相对固定的第一摆镜、第二摆镜和定标反射镜,能够沿共同的转轴进行摆动;其中第一摆镜与第二摆镜背向设置成V型,所述定标反射镜位于两个摆镜的V型夹角空间的角平分线上,定标反射镜与两个摆镜背向并倾斜设置;所述转轴位于定标反射镜限制的V型夹角范围内,两个摆镜的中心到转轴的距离相等,两个摆镜的法线均与转轴垂直;驱动第一摆镜、第二摆镜和定标反射镜沿转轴摆动,能够通过定标反射镜将定标光束分别引入到两台光谱成像仪中,两个摆镜的出射光轴对应光谱成像仪的入射光轴,两个摆镜将来自地物目标的光线分别反射到两台光谱成像仪中。
授权日期2017-06-13
专利号CN201611250226.2
语种中文
专利状态审查中-实审
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/29740
专题光谱成像技术实验室
作者单位中国科学院西安光学精密机械研究所
推荐引用方式
GB/T 7714
李立波,王爽,邹纯博,等. 一种用于双光谱成像仪的摆扫及在轨定标组件. CN201611250226.2[P]. 2016-12-29.
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