| 一种X射线聚焦光学聚焦性能测量装置 |
| 刘永安; 李林森; 盛立志; 强鹏飞; 刘舵; 赵宝升; 田进寿; 刘哲
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| 2016-11-18
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| 公开日期 | 2017-05-31
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| 授权国家 | 中国
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| 专利类型 | 发明
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| 摘要 | 本发明的目的是解决X射线聚焦光学性能精确测量问题，从而提出一种真空环境下测试X射线聚焦光学性能的装置。该装置包括沿光轴依次设置的X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器以及后端的数据处理系统和用于定位调节所述待测X射线聚焦光学的多维调节机构，还包括可见光波段的激光器和相应的半导体探测器；所述X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器和半导体探测器均位于真空管道内，其中，X射线源和激光器位于真空管道的一端，且激光器能够取代X射线源位置用于定位光轴，X射线成像探测器和半导体探测器位于真空管道的另一端。 |
| 主权项 | 0001.1.一种X射线聚焦光学聚焦性能测量装置，包括沿光轴依次设置的X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器以及后端的数据处理系统和用于定位调节所述待测X射线聚焦光学的多维调节机构，其特征在于：
还包括可见光波段的激光器和相应的半导体探测器；所述X射线源、待测X射线聚焦光学、X射线成像探测器和半导体探测器均位于真空管道内，其中，X射线源和激光器位于真空管道的一端，且激光器能够取代X射线源位置用于定位光轴，X射线成像探测器和半导体探测器位于真空管道的另一端，通过探测器切换机构选择X射线成像探测器和半导体探测器之一定位于光轴上，以实现利用激光器校正和多维调节机构来保证X射线源、待测X射线聚焦光学和X射线成像探测器的同轴性。 |
| 授权日期 | 2017-06-23
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| 专利号 | CN201611028484.6
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| 语种 | 中文
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| 专利状态 | 审查中-实审
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| 文献类型 | 专利
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| 条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/29644
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| 专题 | 光电子学研究室
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| 作者单位 | 中国科学院西安光学精密机械研究所
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推荐引用方式
GB/T 7714 |
刘永安,李林森,盛立志,等. 一种X射线聚焦光学聚焦性能测量装置. CN201611028484.6[P]. 2016-11-18.
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