OPT OpenIR  > 空间光学技术研究室
基于控制腐蚀的气囊式研抛装置
马臻; 许亮; 丁蛟腾; 陈钦芳
2012-11-21
专利权人中国科学院西安光学精密机械研究所
授权国家中国
专利类型发明
产权排序1
摘要本发明提供一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置,主要解决了现有光学元件,尤其是非球面光学元件加工时成本较高,加工效率较低的问题。该基于控制腐蚀的气囊式研抛装置包括连接有气泵的气囊式抛光头,气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊,还包括承载机构和腐蚀液储液槽,承载机构一侧用于承载被加工元件,本发明实现了非球面的整体研抛,而不是常用的环带修抛,把非球面的加工难度降低到了球面加工的水平;另外将化学腐蚀机理引入光学加工,并通过加热实现腐蚀速率的加快,显著提高了光学元件的材料去除水平,可完成大非球面度的铣磨工作,且实现了非球面铣磨与抛光在同一台机床上完成。
申请日期2012-08-16
专利号CN102785145
申请号CN201210292853
文献类型专利
条目标识符http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/21110
专题空间光学技术研究室
推荐引用方式
GB/T 7714
马臻,许亮,丁蛟腾,等. 基于控制腐蚀的气囊式研抛装置. CN102785145[P]. 2012-11-21.
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基于控制腐蚀的气囊式研抛装置.pdf(347KB) 限制开放CC BY-NC-SA请求全文
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