| 基于控制腐蚀的气囊式研抛装置 |
| 马臻; 许亮; 丁蛟腾; 陈钦芳
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| 2012-11-21
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专利权人 | 中国科学院西安光学精密机械研究所
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授权国家 | 中国
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专利类型 | 发明
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产权排序 | 1
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摘要 | 本发明提供一种基于控制腐蚀的气囊式研抛装置,主要解决了现有光学元件,尤其是非球面光学元件加工时成本较高,加工效率较低的问题。该基于控制腐蚀的气囊式研抛装置包括连接有气泵的气囊式抛光头,气囊式抛光头包括设置在抛光头主体上的气囊,还包括承载机构和腐蚀液储液槽,承载机构一侧用于承载被加工元件,本发明实现了非球面的整体研抛,而不是常用的环带修抛,把非球面的加工难度降低到了球面加工的水平;另外将化学腐蚀机理引入光学加工,并通过加热实现腐蚀速率的加快,显著提高了光学元件的材料去除水平,可完成大非球面度的铣磨工作,且实现了非球面铣磨与抛光在同一台机床上完成。 |
申请日期 | 2012-08-16
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专利号 | CN102785145
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申请号 | CN201210292853
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文献类型 | 专利
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条目标识符 | http://ir.opt.ac.cn/handle/181661/21110
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专题 | 空间光学技术研究室
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推荐引用方式 GB/T 7714 |
马臻,许亮,丁蛟腾,等. 基于控制腐蚀的气囊式研抛装置. CN102785145[P]. 2012-11-21.
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